企業在曆史發展中存在無形資產出資的情況,在IPO中經常會受到證監會的關注。1993年《公司法》規定非專利技術作價出資的金額不得超過有限責任公司注冊資本的20%;2005年《公司法》要求貨幣出資金額不得低於有限責任公司注冊資本的30%。今天我通過一個擬上市公司案例具體分析下。

一、相關案例

天津華海清科機電科技有限公司成立於 2013 年 4 月 10 日,注冊資本 6,000 萬元,由清控創業投資有限公司、北京市康茂怡然科技發展有限公司、天津市財 政投資管理中心、天津科海投資發展有限公司、天津科技融資控股集團有限公司共 同出資設立。華海清科有限設立時住所為天津海河工業區聚興道9號 7號樓1131, 經營範圍為機電設備技術的開發、轉讓、諮詢、服務及相關產品的制造;貨物及 技術進出口業務。2020 年 5 月 13 日向中國證券監督管理委員會 天津監管局遞交了輔導備案登記材料。根據申報材料:2015 年,清華大學以 30 項無形資產(化學機械拋光專利及專利技術)科技成果轉化評估作價 3,060 萬元出資到華海清科,根據學校批複出資後華海清科股權落實到發起人清控創業投資有限公司和北京市康茂怡然科技發展有限公司。但該次出資科技成果轉化評估報告未履行國資評估備案程序。

上交所發問詢函,其中關於無形資產出資問題問詢到:1)出資評估報告未履行國資評估備案程序的原因,是否符合相關法律法規規定,是否存在行政處罰的風險;(2)上述出資無形資產在發行人核心技術及生產經營中的作用及和重要性程度,目前是否仍繼續使用。

二、相關回複

關於出資評估報告未履行國資評估備案程序的原因,是否符合相關法律法規規定,是否存在行政處罰的風險:

2013 年 4 月,清控創投與康茂怡然、天津財投、科海投資以及天津科融五方以知識產權和貨幣出資共同設立華海清科有限,注冊資本 6,000 萬元人民幣,由全體股東共分三期繳納。

2014 年 8 月 15 日,清華大學出具《關於同意化學機械拋光項目產業化組建方案的批複》(清校複[2014]5 號),對華海清科有限的設立進行了批複,具體如下:一、同意將 30 項化學機械拋光核心技術以知識產權出資入股的方式組建天津華海清科機電科技有限公司,並將清華方持有的股權 40%按照如下比例獎勵給3 位主要成果完成人:路新春 34.125%、雒建斌 31.875%、朱煜 34.000%。二、同意將清華方獎勵給路新春、雒建斌和朱煜的股權落實到康茂怡然。三、同意用於出資組建天津華海清科機電科技有限公司的 30 項化學機械拋光核心技術評估價值為 3,060 萬元(最終以國有資產監督管理部門備案結果為準)。

2015 年 1 月 22 日,北京華德恒資產評估有限公司接受清華大學委托出具《清華大學無形資產組—CMP 技術評估項目評估報告》(華評報字[2015]第 005 號),經評估,在評估基準日 2014 年 6 月 30 日,清華大學無形資產組—CMP 技術(包含 24 項專利技術和 6 項已提交專利申請的專有技術)評估價值為 3,060 萬元人民幣。

截至 2015 年 4 月 11 日,前述作為出資的 30 項專利及專有技術辦理完成權利人變更登記手續,專利權由清華大學變更到華海清科有限名下。但是上述《清華大學無形資產組—CMP 技術評估項目評估報告》(華評報字[2015]第 005 號)最終未取得國有資產監督管理部門備案。

上述 30 項無形資產出資涉及的評估結果未完成國資備案手續的原因如下:2014 年,財政部、科技部、國家知識產權局發布了《科技成果轉化管理改革試點文件》,教育部據此發布了《關於在部分部屬高校開展科技成果轉移轉化管理改革試點的通知》。根據上述文件規定,在試點期內(2014 年 10 月 1 日至2015 年 12 月 31 日),試點單位(包括清華大學)可以自主決定對其科技成果轉化方式,試點單位主管部門和財政部門對科技成果的使用、處置和收益分配不再審批或備案。因此,清華大學就上述用於向華海清科出資的 30 項無形資產評估事項向教育部申請備案的過程中,教育部依據上述文件要求將該事項退回清華大學自行處置。

因此,上述無形資產出資過程中,清華大學未就評估結果履行國資備案手續,符合當時有效的國有資產管理相關規定。此外, 公司已取得教育部、財政部批複的《國有產權登記證》 和《財政部關於批複清華大學所屬華海清科股份有限公司國有股權管理方案的函》(財教函[2020]81 號), 相關國資主管部門對公司曆次國有資產出資和股權變動情況均予以確認。

綜上,公司雖然存在無形資產出資涉及的評估結果未履行國資備案手續的情況,但符合當時有效的國有資產管理相關規定, 不存在因此受到行政處罰的風險。

關於上述出資無形資產在發行人核心技術及生產經營中的作用和重要性程度,目前是否仍繼續使用

公司設立時清華大學用於出資的 30 項無形資產具體情況如下表所示:

序號 專利名稱 專利申請號 專利類型 專利狀態 在生產經營中作用及重要性 對應的核心技術
1 Chemical mechanical polishing m achine and chemic al mech anic al US13/384627 發明 有效 CMP整機設備的先進架構中應用的重要技術 高產能設備架構技術
序號 專利名稱 專利申請號 專利類型 專利狀態 在生產經營中作用及重要性 對應的核心技術

polishing apparatus comprising the s ame




2 Method for measuring thickness of film on w afer edge US13/383555 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
3 用於化學機械拋光設備的晶圓交換裝置 TW I447795 發明 有效 CMP高產能設備架構技術中晶圓傳輸技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
4 晶片邊緣膜厚測量方法 TW I454658 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
5 拋光頭 201310113435.2 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術,具有不可替代性 多區壓力調控的拋光技術
6 拋光墊修整頭和具有該拋光墊修整頭的拋光墊修整器 201220059903.3 實用新型 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
7 拋光液擋板 201120374836.X 實用新型 有效 CMP整機設備的先進架構中應用的重要技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
8 用於晶圓交換裝置的晶圓托架和晶圓交換裝置 201120298531.5 實用新型 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
9 拋光頭組件 201120233169.3 實用新型 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術,具有不可替代性 自適應承載頭技術
10 晶圓托架、晶圓交換裝置以及晶圓在位檢測方法 201110382559.1 發明 有效 CMP高產能設備架構技術中晶圓傳輸技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
11 晶圓在位檢測裝置以及晶圓在位檢測方法 201110382233.9 發明 有效 CMP高產能設備架構技術中晶圓傳輸技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
12 用於晶圓交換裝置的晶圓托架組件和晶圓交換裝置 201110235354.0 發明 有效 CMP高產能設備架構技術中晶圓傳輸技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
13 拋光墊修整方法 201110209279.0 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
14 利用化學機械拋光設備進行化學機械拋光的方法 201110143287.X 發明 有效 CMP整機設備的先進架構中應用的重要技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
15 化學機械拋光設備 201110143089.3 發明 有效 CMP整機設備的先進架構中應用的重要技 高產能設備架構技術
序號 專利名稱 專利申請號 專利類型 專利狀態 在生產經營中作用及重要性 對應的核心技術





術,具有不可替代性
16 拋光液物理參數測量裝置、測量方法和化學機械拋光設備 201110058436.2 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
17 一種拋光頭 201110039297.9 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術 多區壓力調控的拋光技術
18 拋光頭 201110039266.3 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術 多區壓力調控的拋光技術
19 拋光頭 201110039127.0 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術 多區壓力調控的拋光技術
20 一種用於化學機械拋光設備的晶圓交換裝置 201010623316.8 發明 有效 CMP高產能設備架構技術中晶圓傳輸技術,具有不可替代性 高產能設備架構技術
21 電渦流傳感器 201010598232.3 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
22 一種矽片邊緣膜厚測量方法 201010266786.3 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
23 化學機械拋光機及具有它的化學機械拋光設備 201010246628.1 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
24 一種拋光墊修整頭 201010217013.6 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
25 一種用於對拋光墊進行修整的修整裝置 200910089150.3 發明 有效 CMP智能拋光技術中應用的重要技術,具有不可替代性 拋光裝備運行參數智能監測與調控技術
26 一種內循環冷卻拋光盤 200910083720.8 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術,具有不可替代性 直驅式拋光驅動技術
27 集成外轉子式直驅拋光機轉臺 200910083590.8 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術,具有不可替代性 直驅式拋光驅動技術
28 一種電機內置式拋光機轉臺 200910083589.5 發明 有效 CMP拋光模塊中應用的重要技術,具有不可替代性 直驅式拋光驅動技術
29 Device and Method for Me asuring Thickness of US13/387964 發明 已失 CMP智能拋光技術中 非核心技術
序號 專利名稱 專利申請號 專利類型 專利狀態 在生產經營中作用及重要性 對應的核心技術

Slurry and Chemical Mech anic al Polishing App ar atus Comprising the Device

應用的技術,用於拋光機理研究
30 化學機械拋光機的拋光頭支架 201020283470.0 實用新型 已失效 CMP拋光模塊中應用的技術 非核心技術

上述清華大學出資的 30 項專利主要涉及的公司核心技術有:直驅式拋光驅動技術、 高產能設備架構技術和拋光裝備運行參數智能監測與調控技術。除上述核心技術外,上述 30 項專利還涉及化學機械拋光的基礎性功能模塊和工藝控制,該等技術在公司不同型號的 CMP 設備上應用廣泛,在生產經營中發揮著重要作用。同時上述 30 項出資的技術專利推進了公司的產品迭代,為技術革新和升級奠定了基礎。

中介機構認為:上述用於出資的 30 項專利涉及公司部分核心技術,重要性程度高;大多數專利技術在公司不同型號的 CMP 設備上應用廣泛,目前仍在使用,使用情況良好並對公司產品的技術迭代具有重要意義。

三、相關分析

在IPO審核過程中,無形資產出資是經常會被關注的,我們通過不同案例,雖然會看到不同的問詢點,但無外乎會關注:無形資產出資的程序合規問題,例如是否經過評估?評估是否存在瑕疵?無形資產出資是否超過法定比例;自然人股東以無形資產出資是否涉及職務成果;權屬情況及是否存在糾紛及潛在糾紛。

從各案例來看,如何應對?一般來說,有幾個維度可供參考:在遵循客觀事實的基礎上,將當時無形資產出資的情況說清楚,包括有無評估、工商登記等;取得相關主管部門出具的合規證明;公司後續的補正措施,例如股東對出資進行補足、或者股東出具承諾函保證若有糾紛或賠償由該股東進行賠償;股東召開股東會對該問題形成決議,確保公司股權清晰完整,不會形成股權或其他糾紛。

感謝天津華海清科公開的數據,祝上市成功!


延伸閱讀:

點贊(0)

評論列表 共有 0 條評論

暫無評論

法務人求職招聘

微信掃一掃查看招聘信息

立即
投稿

微信公眾賬號

微信掃一掃加關注

發表
評論
返回
頂部